Chromium_Cr

濺射是薄膜沉積的制造過程，是半導(dǎo)體，磁盤驅(qū)動器，光盤和光學(xué)器件行業(yè)的核心。

對于電子層面， 濺射是指由高能粒子沖擊靶材而將原子從靶材或源材料上噴射出來，沉積在基板（如硅晶片、太陽能電池板或光學(xué)器件）的過程。濺射過程開始前，將要鍍膜的基板放置在含有惰性氣體（通常是氬氣）的真空室中，在靶源上施加負(fù)電荷，然后靶源沉積到基板，引起等離子體發(fā)光。

濺射率因沖擊粒子的能量、入射角度、粒子和靶原子的相對質(zhì)量、靶原子的表面結(jié)合能的不同而變化。物理氣體沉積的幾種不同方法被廣泛的應(yīng)用于濺射鍍膜機(jī)，包括離子束、離子輔助濺射、氧氣環(huán)境下反應(yīng)濺射、氣流和磁電管濺射。

立承德可以幫助您確定您需要的沉積材料，以符合您的物理沉積要求，并可以幫助您選擇最好的合金和化合物，以符合您的精確薄膜涂層規(guī)格。